5招教你改善单晶硅太阳電(diàn)池PECVD设备镀膜均匀性

单晶硅太阳電(diàn)池PECVD设备镀膜均匀性的细节因素可(kě)从以下5个方面改善

1.适当的降低镀膜过程中反应压力有(yǒu)助于改善镀膜均匀性，

2.适当增加工艺沉积前的恒温时间、控制绒面的均匀性同样有(yǒu)助于改善镀膜均匀性，

3.腔體(tǐ)内部及特气进气孔的清洁保养及时性同样可(kě)提升单晶硅太阳電(diàn)池PECVD镀膜均匀性，

4.降低石墨舟表面粗糙度同样可(kě)改善镀膜均匀性。

5.选择在炉腔压力1200mtorr、恒温时间5min、降低石墨舟表面粗糙度，搭配绒面差异小(xiǎo)的硅片，

做好这些对镀膜均匀性改善可(kě)以有(yǒu)非常好的效果

PECVD镀膜技术原理(lǐ)：是利用(yòng)低温等离子體(tǐ)作能(néng)量源，样品置于低气压下辉光放電(diàn)的阴极上，利用(yòng)辉光放電(diàn)（或另加发热體(tǐ)）使样品升温到预定的温度，然后通入适量的反应气體(tǐ)，气體(tǐ)经一系列化學(xué)反应和等离子體(tǐ)反应在样品表面形成固态薄膜

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