石金科(kē)技告诉你哪些因素影响管式PECVD 镀膜的均匀性

经过专业人员从镀膜工艺参数设定、硅片制绒面反射率及石墨舟状态3 个方面对管式PECVD 镀膜均匀性进行了研究，结果表明：

      1) 镀膜过程中适当降低腔體(tǐ)外层压力，增加内层氮硅比，降低射频功率对片内或片间均匀性有(yǒu)所改善。实验过程中，在保证良率的情况下，选择外层压力為(wèi)1700 mTorr、内层氮硅比為(wèi)4.487、射频功率為(wèi)7600 W 时，调节DLV 优化石墨舟各區(qū)温度且定期清理(lǐ)腔體(tǐ)内部碎片可(kě)改善镀膜均匀性。

      2) 在一定范围内，制绒面反射率增加，膜厚增大，片内均匀性更优。

      3) 新(xīn)石墨舟镀膜均匀性明显优于旧石墨舟；在新(xīn)石墨舟使用(yòng)周期内，运行30 次时片间均匀性达到最优。

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