石墨舟状态对镀膜均匀性的影响

将新(xīn)石墨舟及使用(yòng)超过3 年的旧石墨舟饱和后进行PECVD镀膜，片间均匀性差异如图7 所示。由图7 可(kě)知，新(xīn)石墨舟表面平整度好，石墨舟片导電(diàn)性一致，薄膜分(fēn)子可(kě)以均匀地沉积在硅片表面，片间均匀性更优。图8 為(wèi)新(xīn)石墨舟在使用(yòng)周期内的片间均匀性变化趋势图。

   新(xīn)石墨舟饱和后在沉积时仍有(yǒu)部分(fēn)等离子體(tǐ)在石墨舟片上沉积，运行次数小(xiǎo)于30 次时，随着运行次数的增加，石墨舟片上沉积的等离子體(tǐ)减少，片间均匀性越佳。运行次数大于30 次后，随着使用(yòng)次数的增加，石墨舟片内壁与硅片接触边缘处薄膜变厚，電(diàn)场反而变强，发生更多(duō)的等离子沉积，易出现不同程度的边缘发白现象，导致片间均匀性逐次变差。

石金科(kē)技生产的PECVD石墨舟作為(wèi)镀膜最常用(yòng)的工艺，被广泛用(yòng)于半导體(tǐ)、太阳能(néng)電(diàn)池片的生产过程中。作為(wèi)硅片的载體(tǐ)，石墨是最理(lǐ)想的材料，对表面镀膜的均匀性、色差等产生至关重要的作用(yòng)，要求其有(yǒu)高纯度、耐腐蚀、极好的抗弯强度和良好的导電(diàn)性能(néng)。

本文(wén)出自深圳市石金科(kē)技股份有(yǒu)限公司，公司是集销售、应用(yòng)开发，产品加工的石墨专业厂家，专门為(wèi)模具行业、机械行业、真空热处理(lǐ)炉、電(diàn)子半导體(tǐ)及太阳能(néng)光伏产业等提供石墨材料、石墨電(diàn)极和相关的石墨制品，欢迎致電(diàn)13662687390